Zyvex、量子プロセッサーチップ製造用の超精密リソグラフィ装置を発表

Zyvexの新製品「ZyvexLitho1TM」は、走査型トンネル顕微鏡（STM）を用いて、最先端の半導体工場で使用されているDUVやEUV装置よりもはるかに優れた0.768ナノメートルの線幅を達成した。この装置は、電子ビームリソグラフィ（EBL）の一種である水素脱活性化リソグラフィと呼ばれる技術を用いて、原子レベルの分解能を実現している。本装置の用途としては、量子ドットを用いた量子ビットの最高品質を実現するための超精密構造形成などを挙げることができる。また、量子ドット以外の用途として、バイオメディカルや化学分離技術に使用されるナノ細孔膜の構築などにも使用可能だ。

この製品の欠点は、スループットが非常に低いこと。そのため、少量生産の量子プロセッサーチップの製造には適しているかもしれないが、大量生産の家電製品には、少なくとも今は適しているとは言えないだろう。本製品に関するZyvexのプレスリリース 、本デバイスの物理を説明したブログ記事はZyvexのホームページ で確認できる。